2026年11月4日 星期三

三星美国泰勒厂启动3月EUV测试,2nm GAA工艺加速落地

三星美国工厂启动2nm GAA工艺EUV测试,引领芯片制造新纪元

三星电子 美国泰勒 EUV 光刻机

先锋视界2026年01月19日 22:14消息,三星美国泰勒晶圆厂3月测试EUV光刻机,加速2nm GAA工艺部署。

   1月19日消息,据《韩国经济新闻》今天报道,三星电子将从今年3月起在其美国泰勒一号工厂测试EUV光刻机,随后陆续引进刻蚀、沉积等设备,计划今年下半年投产。 三星电子近期宣布将在美国泰勒一号工厂启动EUV光刻机的测试工作,标志着其在先进制程技术布局上的进一步深化。此举不仅体现了三星在全球半导体产业链中持续强化自身竞争力的决心,也反映出其对美国市场及制造能力的高度重视。随着测试工作的推进,相关刻蚀与沉积设备也将逐步引入,预计下半年将实现量产。这一系列动作表明,三星正加快在海外关键制造环节的布局,以应对全球半导体产业日益激烈的竞争格局。

   据业界消息,三星电子已向德克萨斯州政府提交了工厂的临时使用许可申请,一旦满足消防和安全等相关条件,该工厂可在正式竣工前先行投入使用。为加快产能稳定和提升产品良率,三星已派遣大量经验丰富的“王牌级”工程师前往当地,以确保项目顺利推进。 从行业角度来看,这一举措显示出三星在布局全球制造版图时的高效与务实。提前启用工厂有助于其更快响应市场需求,同时通过派遣顶尖技术团队,也反映出其对产品质量和生产效率的高度重视。这种策略不仅有助于提升市场竞争力,也为当地创造了更多就业机会,对区域经济发展具有积极意义。

   该报记者于1月10日探访了泰勒工厂,发现其外观与一年前相比有了显著变化:工厂周围的塔吊基本已拆除,原本空旷的停车场如今停满了不同品牌的车辆。

   当地施工方人士表示:“每天进入工地的人员有大约 7000 名,同时 6 层办公室已有 1000 人开始办公,为下半年投产做准备”。

   据悉,泰勒工厂的占地面积约为485万平方米,超过了韩国本土平泽工厂(289万平方米)和华城工厂(157万平方米)的总和。同时,三星仅用4年时间便完成建设,建厂速度比在韩国更快。

   该工厂的初期产能已经确定。去年7月,三星从特斯拉获得了价值165亿美元(按当前汇率约合1151.66亿元人民币)的AI5、AI6芯片订单,当时特斯拉CEO埃隆·马斯克在X平台上表示:“这个数额只是最低规模,实际生产量可能会是这个数目的好几倍”。

   同时,高通首席执行官安蒙在今年接受媒体采访时透露:“公司正在考虑将下一代应用处理器芯片的生产工作交由三星负责。”

   如果客户数量持续增加,三星可能会提前启动泰勒二号工厂的投产。目前该工厂正在进行地基施工,定位为面向大型科技公司的“扩展基地”,三星已预留足够土地,最多可建设10座工厂,以满足人工智能时代日益增长的代工需求。

   业内认为,三星的成功与否将取决于其是否能满足特斯拉的高标准要求,若取得突破,美国科技企业可能逐步减少对台积电的依赖。

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